日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-20
設備概覽
該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。配備觸控面板和排序器控制，任何人都可以輕松、全自動地在樣品上形成導電膜。采用空心陰極樣品臺，通過低壓放電進行鍍膜，幾乎沒有樣品損壞。在空心陰極中會產生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度和材料如何，都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體，消耗量小，未反應的氣體被活性炭捕集器吸附去除，從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。
用途
用于 SEM 和 TEM 的鋨涂層設備。由于其精細的粒徑和出色的包裹性，它對于高倍率觀察應用和復雜形狀的樣品非常有效。由于超薄的Os導電涂層，它也適用于EBSD分析、俄歇分析和X射線分析。
日本shinkuu鋨涂層裝置HPC-20
規格
| 物品 | 規格 |
| 電源 | AC100V（單相100V15A）1口 使用3芯插頭帶地線（3m） |
| 設備尺寸 | 寬470mm，深400mm，高412mm （重量25kg） |
| 旋轉泵 | 寬120mm、長290mm、高250mm 排氣速度30?/min 專用油用旋轉泵 （重量11kg） |
| 樣品室尺寸 | 內徑120mm，高77mm（硬質玻璃） |
| 電極 | 陽極：Φ110mm 陰極：內徑Φ108mm，深度35mm （本公司的空心陰極法） |
| 樣品臺尺寸 | Φ98mm，空心陰極浮動安裝 |
| 可安裝樣品尺寸 | Φ98mm，高度45mm，包括樣品臺 |
| 鋨安瓿標準品 | 厚度：Φ12.8mm以下 高度：圓形60mm以下，安瓿型65mm以下 |
| OsO4 消耗量（使用次數） | 每1g安瓿約100次（標準條件下 ） |
| 雙語顯示功能 | 配備日/英文顯示切換功能 |
