丰满日本少妇一二三区,一边捏奶头一边高潮视频,九九九久久国产精品,三年片观看免费观看大全,蜜桃臀av一区二区三区

技術文章ARTICLE

您當前的位置：首頁 > 技術文章 > 日本Atomax BN系列二流體噴嘴：半導體行業去膠剝離機效率提高的解決方案
日本Atomax BN系列二流體噴嘴：半導體行業去膠剝離機效率提高的解決方案

發布時間： 2025-08-25　　點擊次數： 88次

在半導體制造過程中，全自動去膠剝離機的性能對于提高生產效率和產品質量至關重要。日本Atomax公司推出的BN系列二流體噴嘴，憑借其高流量處理能力和穩定的霧化性能，為半導體行業的全自動去膠剝離機提供了高效的解決方案。
技術特點
高流量處理能力：BN系列噴嘴在AM系列的基礎上擴展了噴霧流量范圍，能夠穩定處理更高流量的噴霧需求。該系列包括BN90、BN160、BN200、BN500和BN1000等型號，液體噴霧端口直徑從φ2.0mm至φ6.0mm。
防堵塞性能：保持了Atomax噴嘴的防堵塞性能，可連續運轉而不堵塞，能夠霧化大量處理液。
適應高粘度液體：BN系列噴嘴能夠處理高粘度液體，適用于多種應用場景，包括半導體制造中的清洗和噴涂工序。
應用場景
蝕刻后清洗：蝕刻工藝會在晶圓表面留下各種殘留物，包括蝕刻副產物、聚合物和未去除的光刻膠。BN系列噴嘴憑借較高的噴霧流量和處理能力，可有效應對這一挑戰，顯著提高產品良率。
封裝基板清洗：在封裝過程中，基板表面可能存在灰塵、油脂等污染物，會影響芯片與封裝基板之間的連接可靠性。BN系列噴嘴可對封裝基板進行高效清洗，確保封裝界面的潔凈度和良好的電氣性能。
CMP后清洗：化學機械拋光后，晶圓表面會殘留大量研磨顆粒和拋光液成分。BN系列噴嘴能夠處理含有固體顆粒的漿料型清洗液，可連續穩定地清除CMP殘留物，提高工藝可靠性。
優勢與價值
提高生產效率：BN系列噴嘴的高流量處理能力和穩定的霧化性能，能夠顯著提高全自動去膠剝離機的生產效率。
降低生產成本：通過減少液體消耗和提高清洗效率，BN系列噴嘴有助于降低生產成本。
提高產品質量：精確的霧化和穩定的性能確保了清洗和噴涂的均勻性，減少了因工藝不均導致的缺陷。
日本Atomax的BN系列二流體噴嘴以其高流量處理能力、防堵塞性能和適應高粘度液體的能力，為半導體行業的全自動去膠剝離機提供了高效、可靠的解決方案，有助于提高生產效率和產品質量。

下一篇：日本Atomax PCF系列二流體噴嘴：高性能工業噴霧解決方案的綜合技術剖析

上一篇：日本Atomax極細二流體噴嘴AM系列：電子元件制造薄膜生成的精準解決方案

產品中心 Products

日本Atomax BN系列二流體噴嘴：半導體行業去膠剝離機效率提高的解決方案

技術特點

應用場景

優勢與價值